Zadanie 12.2. Opracowanie technologii otrzymywania elastycznych powłok antyrefleksyjnych za pomocą druku cyfrowego typu ink-jet |
nano.eitplus.plO projekcie O projekcie Struktura zadań Zespół realizujący Folder promocyjny Departamentu Nanotechnologii Obszary badań Nanomateriały Nanotechnologie Nanoinżynieria Zadania badawcze ZADANIE 1.1 ZADANIE 1.2 ZADANIE 1.3 ZADANIE 1.4 ZADANIE 1.5 ZADANIE 1.6 ZADANIE 2.1 ZADANIE 2.2 ZADANIE 2.3 ZADANIE 2.4 ZADANIE 3. ZADANIE 4. ZADANIE 5.1 ZADANIE 5.2 ZADANIE 5.3 ZADANIE 5.4 ZADANIE 5.6 ZADANIE 6. ZADANIE 7. ZADANIE 8.1 ZADANIE 8.2 ZADANIE 9.1 ZADANIE 9.2 ZADANIE 9.3 ZADANIE 11.1 ZADANIE 11.2 ZADANIE 11.3 ZADANIE 11.4 ZADANIE 12.1 ZADANIE 12.2 ZADANIE 13 ZADANIE 14 Wydarzenia Aktualności Wynalazki Wynalazki Nagrody dla naszych technologii Lista publikacji Kontakt Mapa dojazdu |
strona główna
nano.eitplus.pl
Zadania badawcze
ZADANIE 12.2
Zadanie 12.2. Opracowanie technologii otrzymywania elastycznych powłok antyrefleksyjnych za pomocą druku cyfrowego typu ink-jet
Wykonawca: Wrocławskie Centrum Badań EIT+ Kierownik zadania: dr inż. Andrzej Chuchmała Opis zadania: Celem projektu badawczego jest opracowanie technologii wytwarzania elastycznych materiałów absorbujących promieniowanie mikrofalowe za pomocą druku cyfrowego typu ink-jet. W celu zmaksymalizowania szerokości absorbowanego pasma oraz wielkości absorpcji wykonane zostaną struktury wielowarstwowe nanoszone na elastyczne materiały polimerowe charakteryzujące się wysoką odpornością na czynniki środowiskowe (np. Kapton). Koncepcja realizacji zadania zakłada wytworzenie powłok antyrefleksyjnych opartych na tzw. strukturach SRR (Split Ring Resonator) za pomocą metody ink-jet. Niskokosztowa technologia druku cyfrowego typu ink-jet charakteryzuje się łatwą zmianą kształtu wytwarzanych elementów, co wymaga jedynie zmiany procedury druku. Dzięki temu, znacznie ograniczone zostają problemy związane ze zmianą np. masek lub innych elementów, które są obecne w przypadku innych technologii druku (np. sitodruk, rotograwiura). Obszary potencjalnej współpracy z partnerem biznesowym: Technologia wytwarzania powłok o właściwościach antyrefleksyjnych w zakresie mikrofal, które znajdują szerokie zastosowanie m.in. w: - ekranowaniu urządzeń wykorzystywanych w telekomunikacji, - zmniejszaniu przekroju czynnego na odbicie w samolotach oraz pojazdach naziemnych, w szczególności z sektora zbrojeniowego.
Czy wiesz, że ...Polacy nie gęsi na manganie umieją pisać. Polscy naukowcy zapisali informacje na pojedynczym atomie manganu co ma duże znaczenie dla wzrostu mocy komputerów.
|
|
Aktualności30 Kreatywnych Wrocławia odebrało wczoraj wyróżnienia z rąk prezydenta Rafała Dutkiewicza.01.07.15
|